Exquis T4 Pro 直读光谱仪

Exquis T4 Pro全谱直读光谱仪以其卓越的性能、稳定的品质、智能化的设计以及极高的性价比，成为了金属制造及加工企业的理想选择。采用了光室密封循环充氩技术，是一款高质量、紧凑型且价格合理的仪器，非常适合对各种金属样品（如铁基、铝基或铜基金属）中的元素含量进行常规分析，是金属制造及加工企业理想的选择。

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技术参数

TECHNICAL PARAMETERS

光学系统	光学结构	帕型-龙格罗兰圆全谱真空型光学系统
激发台	电极分析间隙氩气流量	钨材喷射电极 4mm 激发流量约3.5L/min，待机流量约0.1L/min




激发光源	光源类型放电频率放电电流	数字光源，高能预燃技术（HEPS） 100-1000HZ 最大400A




数据采集系统	探测器其他功能	高性能CMOS阵列（4096像素）光室温度，软件自动控制压力，通讯监测

性能指标	可检测基检测时间体	Fe，Al，Cu，Zn，Ni，Mg，Ti，Pb，Sn 依据样品类型而定，一般20S左右
电源与环境要求	工作电源工作功率	AC220V 50/60Hz 400W



尺寸与重量	主机尺寸重量	6107501140mm 约160Kg

仪器特点

INSTRUMENT FEATURES

光室密封循环充氩技术		Exquis T4 Pro采用了先进的光室密封循环充氩技术，有效隔绝外界干扰，确保分析过程在纯净、稳定的环境中进行。
全元素覆盖		配备低噪声的4096像素CMOS检测器，Exquis T4 Pro实现了对Fe、Al、Cu、Zn、Ni、Mg、Ti、Pb、Sn等金属基体及非金属元素（N,C,S,P,B,As）的全谱分析。其卓越的紫外响应灵敏度，无需额外镀膜即可直接分析非金属元素，对于高纯金属的分析，Exquis T4 Pro同样表现出色。
专利激发光源		拥有专利的全数字高稳定性激发光源，Exquis T4 Pro的频率最高可达1000Hz，能够根据不同材质自动匹配最佳激发条件，确保每次分析都能获得最优结果。
整体恒温屏蔽技术		采用全新的整体恒温屏蔽技术，Exquis T4 Pro将温度控制精度提升至±0.1℃，确保光学系统在稳定、均匀的温度环境中工作。
智能加热及保温技术		创新的智能全覆盖加热及保温技术使得Exquis T4 Pro的冷机启动时间大幅缩短至30分钟，极大地节省了等待时间，提高了整体运营效率。
曲线智能跳转技术		创新的曲线智能跳转技术使得Exquis T4 Pro能够根据样品的分析值在后台智能选择最佳分析谱线，从而进一步提高了分析结果的准确性和精度，分析结果自动判断产品牌号。

产品应用

PRODUCT APPLICATION